为加强与在华外资企业常态化沟通交流，学习美国企业在推动科技创新与产业创新深度融合中好的实践经验，2025年6月12日，张小燕副院长带队赴美敦力与中国美国商会及其会员企业召开座谈会，就中美经贸关系、产业科技发展、政策效果等开展交流。科技与标准研究所研究人员陶青阳作为本所代表参加座谈会。

座谈过程中，中国美国商会介绍2025年《美国企业在中国白皮书》、《2025中国商务环境调查报告》，Avanci、AMD、慧与科技、英特尔等企业一致表示将持续深耕中国市场，围绕专利池建设、团体标准制定、软硬件协同生态搭建、数据安全等话题介绍发展成效，希望在相关行业标准建设、用户采购方面得到有关政府部门支持。

下一步，科技与标准所将加强与在华美资企业等的沟通交流，立足工信主责主业，围绕中美科技竞争持续开展企业创新、标准专利、技术出海等相关研究，为提升我国科技企业全球竞争力贡献智慧。